安東帕（上海）商貿有限公司
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高溫室：HTK 1500
HTK 1500 高溫室是高溫 X 射線衍射 (XRD) 環境加熱的新基準，可將所有類型的樣品材料（包括結晶粉末和塊狀樣品）均勻加熱至 1500 ℃。加熱棒的位置，加上高精度的溫度測量，使 HTK 1500 成為市場上溫度高達 1500 ℃ 的“真正"環境加熱臺。 HTK 1500 配備了“真正"的環境加熱，能夠在 25 ℃ 至 1500 ℃ 下保證溫度的同時又不影響準確性。HTK 1500 因其智能設計和堅固的加熱器及絕緣材料， 可以提供足夠高的溫度，用于陶瓷或金屬等應用。HTK 1500 的溫度傳感器位于具有保護性陶瓷樣品支架中樣品的正下方。與其他采用獨立式溫度傳感器的裝置相比，該裝置提供了高度可重復、可靠的溫度測量和穩定的溫度控制。 樣品旋轉是獲得充分樣品統計數據的關鍵，例如通過克服優先取向，從而提高數據質量。HTK 1500 設計為一種環境加熱器，提供獨立的樣品架，允許在高溫 X 射線衍射 (XRD) 測量期間旋轉樣品。 對于空氣敏感和 / 或有機粉末和液體的研究，使用毛細管是必要的，因此需要在透射幾何中測試。從反射模式到透射模式的快速轉換至關重要，特別是當多用戶實驗室中的應用和樣品類型差異很大時。使用 HTK 1500，用戶可以輕松快速地在兩種不同的測量幾何之間切換。 HTK 1500 的設計采用了具有高度化學耐性的材料。由氧化鋁制成的化學惰性樣品杯，可將與樣品發生反應的風險降至更低 — 即使在的溫度下。為了確保樣品在加熱過程中免受氧化，可以在不同的惰性氣體環境下進行測量。 HTK 1500 與 XRDynamic 500 匹配，其在設計時就考慮到了非環境實驗。HTK 1500 與 XRDynamic 500 的組合可確保高度自動化，例如樣品臺識別，樣品臺和樣品（重新）校準，冷卻水、真空和氣體管線的輕松連接以及大批量實驗的直接設置。與 XRDynamic 500 控制軟件輕松集成，為高溫 XRD 分析提供了便捷的工作方式。 滑塊可快速重復地安裝和拆卸樣品架，確保操作便捷和更換樣品快速。氧化鋁載樣杯可容納各種樣品形式，如粉末樣品、塊狀樣品以及薄膜樣品。 關鍵功能
環境加熱新
通過樣品旋轉提高數據質量
適合每個樣品的解決方案
惰性材料具有優異的耐久性
與 XRDynamic 500 匹配
極其簡單易用
技術規格
溫度范圍 25 ℃ 至 +1500 ℃ 溫度測量 Pt 10Rh-Pt 熱電偶（S 型） 壓力范圍 10-1mbar 至 0.5 bar 相對壓力 氣氛 空氣、真空、惰性氣體 樣品類型 粉末、塊體樣品 樣品杯材料 氧化鋁 樣品直徑 16 mm X 射線幾何 反射和透射 測量角度 0 - 145° 2θ 安東帕認證服務
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