概述
Edwards 的防腐蝕 STP-L301(C) 用于電子顯微鏡和半導體應用。Edwards 的轉子可實現的性能,大的制程靈活性。
STP-L301(C) 已經由科學儀器、半導體和磁介質行業的大型設備制造商投入使用,并得到了。
此 STP 泵在供貨時帶有入口篩網。
如需完整安裝,請訂購一臺 STP 泵、一個控制器、一根連接電纜和一根電源電纜。
應用
- 金屬(鋁)、鎢和電介質(氧化物)以及多晶硅等離子刻蝕(氯化物、氟化物和溴化物)
- 電子回旋共振 (ECR) 刻蝕
- 薄膜沉積 CVD、PECVD、ECRCVD、MOCVD
- 濺射
- 離子注入源,射束線泵送端點站
- MBE
- 擴散
- 光致抗蝕劑脫模
- 晶體/晶膜生長
- 晶片檢查
- 負載鎖真空腔
- 科學儀器:表面分析、質譜分析、電子顯微鏡
- 高能物理:射束線、加速器
- 放射線應用:融合系統、回旋